Halbleiterreinigung SC-1
Standard Clean 1 Lösung zur Entfernung von organischen Verunreinigungen und Partikeln von Siliziumwafern. Formulierung mit Ammoniumhydroxid und Wasserstoffperoxid, die den SEMI C8 und ITRS Spezifikationen entspricht. In verschiedenen NH4OH Konzentrationen erhältlich.
Technische Informationen
| Reinheit / Qualität | 🔒 Register free to view |
| Mindestbestellmenge | 🔒 Register free to view |
| Kategorie | Reinigungs- und Verarbeitungschemikalien |